เหตุใดความบริสุทธิ์ของแอโนดจึงควบคุมคุณภาพการชุบ
ในการชุบด้วยไฟฟ้า แอโนดจะละลายเพื่อเติมไอออนทองแดงในอ่าง สิ่งเจือปนทุกอย่างในขั้วบวกจะเข้าสู่สารละลายและตำแหน่งโค้ดในชั้นที่ชุบ หรือยังคงเป็นสารตกค้างที่ไม่ละลายน้ำซึ่งสะสมเป็นตะกอน ในงานที่มีความแม่นยำสูง- เช่น การกระแทกแผ่นเวเฟอร์ของเซมิคอนดักเตอร์ การพิมพ์-วงจรผ่าน-การชุบรูและการตกแต่ง ผลกระทบทั้งสองอย่างจะทำให้คราบสะสมลดลง: สิ่งเจือปนที่วางโค้ดจะเปลี่ยนโครงสร้างและความแข็งของเกรน ในขณะที่ตะกอนจะทำให้พื้นผิวหยาบและปิดกั้นถุงแอโนด
C10100 แตกต่างจากแอโนดมาตรฐานอย่างไร
คอปเปอร์ที่มีความเหนียวด้วยไฟฟ้ามาตรฐาน- (C11000) มีออกซิเจน 0.02 ถึง 0.04 เปอร์เซ็นต์ และมีระดับธาตุเงิน ตะกั่ว และซัลเฟอร์ที่สูงกว่า ในระหว่างการละลาย องค์ประกอบเหล่านี้ไม่ทำงานสม่ำเสมอ: เงินและตะกั่วสามารถตกตะกอน บริเวณที่มีออกซิเจน-จะละลายไม่สม่ำเสมอ และสารประกอบซัลเฟอร์มีส่วนทำให้เกิดสารตกค้างที่ไม่ละลายน้ำ C10100 ได้รับการขัดเกลาให้เป็นเกรดอิเล็กทรอนิกส์ที่ปราศจากออกซิเจน- โดยมีออกซิเจนต่ำกว่า 5 ppm และจำกัดสิ่งเจือปนที่เป็นโลหะทุกชนิดอย่างเข้มงวด แอโนดละลายได้หมดจดและสม่ำเสมอ ไอออนของทองแดงจะเข้าสู่สารละลายโดยไม่ลากไปตามองค์ประกอบที่ไม่ต้องการ และการกระจายแรงดันไฟฟ้าทั่วทั้งถังจะคงที่
ขีดจำกัดความไม่บริสุทธิ์และผลกระทบ
| ติดตามองค์ประกอบ | ขีดจำกัด C10100 | ผลต่อการชุบ |
|---|---|---|
| เงิน | สูงสุด 25 หน้าต่อนาที | การเจริญเติบโตของเมล็ดไม่สม่ำเสมอในตะกอน |
| ออกซิเจน | สูงสุด 5 ppm | โพลาไรเซชันและขั้วบวกแบบพาสซีฟ |
| ตะกั่ว | สูงสุด 5 ppm | การปนเปื้อนจากอ่างอาบน้ำ คราบสะสมที่เปราะ |
| กำมะถัน | สูงสุด 15 หน้าต่อนาที | การเกิดตะกอนที่ไม่ละลายน้ำ |
| ฟอสฟอรัส | สูงสุด 3 ppm | การลดการนำไฟฟ้าและความไม่เสถียรของฟิล์ม |
ทำไมออกซิเจน-โครงสร้างอิสระจึงมีความสำคัญ
แอโนดที่มีออกซิเจนจะพัฒนาคิวรัสออกไซด์ที่ขอบเขตของเกรน ในอ่างชุบ อนุภาคออกไซด์เหล่านี้อาจกลายเป็นจุดที่มีการละลายไม่สม่ำเสมอ- ทำให้เกิดรูพรุนที่พื้นผิวแอโนดและความเข้มข้นของกระแสเฉพาะที่ โครงสร้างที่ปราศจากออกซิเจน-ของ C10100 ขจัดกลไกนี้ ทำให้มีอัตราการใช้แอโนดที่ราบรื่นและคาดการณ์ได้ ซึ่งช่วยลดความยุ่งยากในการจัดการอ่างน้ำ และลดความถี่ในการทำความสะอาดถุงแอโนด
การใช้งาน
แอโนด C10100 ใช้ในการชุบเซมิคอนดักเตอร์ด้วยไฟฟ้า การชุบ-แผงวงจรพิมพ์ การชุบตัวเชื่อมต่อและลีด- การชุบเฟรม การกำบัง EMI การชุบตกแต่งที่จำเป็นต้องมีการเคลือบกระจก และเซลล์วิจัยการกลั่นด้วยไฟฟ้า รูปแบบแอโนดประกอบด้วยแท่งกลม สี่เหลี่ยม และแบน ทรงกลม และ-รูปทรงเครื่องจักรแบบกำหนดเองที่มีขนาดตามรูปทรงของถัง
คำถามที่พบบ่อย
ถาม: OFE ย่อมาจากอะไร?
ตอบ: อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ปลอดออกซิเจน- เป็นเกรดที่กำหนดสำหรับทองแดง C10100
ถาม: เหตุใดจึงเกิดตะกอนแอโนด
ตอบ: สิ่งเจือปนที่ไม่ละลายน้ำในขั้วบวกจะไม่ละลายในอ่างและสะสมเป็นสารตกค้างที่ด้านล่างของถัง
ถาม: C10100 เหมือนกับทองแดง OFHC หรือไม่
ตอบ: ไม่ใช่ OFHC เป็นชื่อกระบวนการที่ใช้กับ C10200 ในอดีต C10100 เป็นข้อกำหนดเกรดอิเล็กทรอนิกส์-ที่มีขีดจำกัดการติดตามที่เข้มงวดมากขึ้น
ถาม: ความบริสุทธิ์ของแอโนด C10100 คืออะไร?
A: ทองแดงขั้นต่ำ 99.99 เปอร์เซ็นต์
ถาม: แอโนด C10100 มีราคาสูงกว่าแอโนดมาตรฐานหรือไม่
ตอบ: ได้ เนื่องจากมีการกลั่นเพิ่มเติม แต่การประหยัดค่าบำรุงรักษาอ่าง อัตราการคัดแยก และคุณภาพการสะสมมักจะตอบแทนค่าพรีเมียมสำหรับงานที่มีความแม่นยำ
ถาม: รูปทรงแอโนดใดที่เหมาะกับถังที่กำหนดมากที่สุด
ตอบ: รูปทรงแท่งและลูกบอลเหมาะกับอ่างอาบน้ำอุตสาหกรรมส่วนใหญ่ ทางเลือกขึ้นอยู่กับการกระจายความหนาแน่นกระแสและข้อกำหนดพื้นที่แอโนด
